研究發(fā)現脂肪胺類型的非離子表面活性劑可對酞菁綠顏料進行表面處理起到較好的效果，之所以能夠起到這種良好的效果是因為:這類表面活性劑可通過一OH和一NH中的一H與酞菁綠顏料表面上的氮形成氫鍵而被吸附到顏料表面上，以其親油的碳氫鏈形成吸附包被膜，所形成的包覆膜能有效地阻止顏料粒子在干燥過程中的聚結，從而抑制晶粒繼續(xù)長大，得到結晶細小的顏料粒子。  

這種經處理后的顏料在有機介質中，由于碳氫鏈與有機介質有較好的相容性能迅速溶劑化形成溶劑化膜，使顏料粒子容易分散,同時還能起到當顏料粒子互相靠近時阻止其絮凝。這種作用隨碳氫鏈增長、溶劑化膜增厚而得到加強，有利于顏料粒子的細化和窄分布。其親水基經水化形成水化膜，它可以有效地阻止顏料粒子間的絮凝，使顏料粒子易于分散。接下來江蘇大堯化工技術部就化學清洗的重要性及范圍做以下講解:

1 、化學清洗的重要性:工藝實驗中每個實驗都有化學清洗的問題，化學清洗的好壞對實驗結果有嚴重的影響，處理不當，則得不到實驗結果或實驗結果不好。因此弄清楚化學清洗的作用和原理，對做好工藝實驗有著重要的意義。大家知道，半導體的重要特性之一是對雜質十分敏感，只要有百萬分之一，甚至微量的雜質，就會對半導體的物理性質有所影響，我們就是利用這一特性，通過摻雜的方法．制作各種功能的半導體器件。但也由于這一特性，給半導體器件工藝實驗帶來麻煩和困難．所使用的化學試劑、生產工具，清洗用的水等都可能成為有害雜質的沾污源．即使是清潔的半導體晶片，較長時間暴露于空氣之中．也會引入明顯的雜質沾污?；瘜W清洗就是消除有害雜質沾污，保持硅片表面清潔。    

2 、化學清洗的范圍:化學清洗主要包括三個方面的清洗，一是硅片表面的清洗；二是使用的金屬材料（如作蒸發(fā)電極用的鎢絲，作蒸發(fā)墊板用的鉬片、作蒸發(fā)源用的鋁合金，制鉻板用的鉻等）的清洗；三是所用工具、器皿（如金屬鑷子．石英管、玻璃容器、石墨模具、塑料和橡膠制品等）的清洗。

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